集成电路的研究，也并没有出现太大问题。
毕竟已经有了规划，按照规划往下走，一步步进行研究就可以，只不过光刻机的研究并不是那么顺利。
光刻机的研究已经定下了基调。
要研究接触式光刻机，除了触式光刻机外，在这年代还有接近式光刻机。
接触式光刻机它的优点就是结构相对简单，成本较低，并且因为掩模版和硅片紧密接触，所以光的衍射效应较小，这样就能得到相对较高的分辨率。
但也有缺点。
那就是掩模版与硅片表面的光刻胶会有直接接触，所以这就容易导致相互污染和磨损，让掩模版使用寿命大幅减少，必须要频繁更换。
接近式光刻机就不一样了。
它的研究出来的原因，就是因为解决接触式光刻机掩模版易损坏的问题，所以才有了接近式光刻机。
这样就能够提高掩模版的使用寿命，以及良品率。
但也有缺点，那就是容易导致系统的分辨率下降，不如接近式光刻机接触式光刻机。
可以说这两种光刻机，都是这个年代的主流，不过相比起来还是接触式光刻机更容易制造。
虽然接近式光刻机与硅片表，只有2.5-25微米的距离，但就是这么微小的距离，增加了机器制造的难度。
而像是后世的投影式光刻机、扫描投影式光刻机、步进重复式光刻机、步进扫描式光刻机 、浸没式光刻机、极紫外光刻机。
这些虽然更好用，但在这年代根本就制造不出来。
先不说后面几款光刻机，就算是投影式光刻机、扫描投影式光刻机，这两款计算机，都要等到70年代初才会被研究出来。
并且研究出来的难度，比起接触式光刻机难度不止增加了一倍。
李枭也不奢望其它，能在1970年代以前，研究出投影式光刻机就可以，这也就意味着追上了国际水平，不至于被落下。
“小枭你什么时候回来的？”，看到李枭，罗教授很高兴道。
“昨天刚到，罗教授，光刻机研究的怎么样了？”，在罗教授的办公室中，坐下后李枭问道。
“不太理想，中间遇上了问题，一直没找到解决的办法。”，提到正事，罗教授也是皱起眉道。
闻言李枭心里也跟着沉了沉，能让罗教授这般犯难的，绝不是小麻烦，也就道：“都有什么问题？”。
“那问题就太多了，我都有些头痛。”，罗教授叹了口气，伸手从抽屉里拿出两片透明的石英掩模，递给了李枭。
李枭接过去看了看，就看到上面那许多细密的划痕，罗教授也是这个时候开口道：“你先看看这个，这是上周刚做的掩模，才用了三次，表面就划成这样，现在用的掩模基板太薄，压的时候只要稍微没控制好，要么掩模裂了，要么晶圆表面被刮出印子，后续刻蚀出来的电路全是断口，良率连三成也达不到。”。
“有没有换厚一点的试试。”，李枭也是看着石英掩模，想了想道。
“试过了，基板加厚到2.5毫米，压力调到最低，但这样一来掩模和晶圆贴不紧，中间容易留气泡，曝光的时候气泡处的图形就会变形，线宽偏差能到2微米，差的太多根本就没办法用。” 。
说完罗教授又叹了口气道：“这还只是第一个问题，还有就是对准的事儿，这更让人闹心，我们只能靠人眼通过显微镜手动对准，但没有人能够一天全部精神力集中，
稍一分心套刻精度增大，有的偏差直接能飙到3微米，这也没有办法，人的精力有限，不可能每时每刻都保证高精度操作。
而最让人头痛的还是咱们的环境问题，不要说外面，就说实验室内，现在我们都无法保证千级洁净，空气中的灰尘落到掩模上，曝光后就是一个个黑点，有时候一批晶圆里，一半都因为灰尘报废了，
我们也想过办法，想着在操作台上加了个简易防尘罩，但结果通风，光刻胶固化速度变慢，曝光时间得延长两倍，效率低得吓人。”。
听着罗教授讲的这些，这一讲就是八九个问题，李枭也是皱起了眉，这些问题之前他也查过，但很多都没有太好的解决办法。
像是环境控制的问题，接触式光刻机要求的环境，在这个年代来讲，是比较苛刻的。
因为光刻的过程对于振动、温度波动甚至空气洁净度都非常敏感，这也是为什么要求在千级洁净的环境中制造。
但要知道想要达到千级洁净可没那么简单，所谓的千级洁净，要求的是每立方米直径≥0.5 μm 的悬浮颗粒不超过约35,200个。
这就需要通过控制空气中微粒、温度、湿度、压力等参数，来满足特定洁净需求。
而这种技术国内现在根本就制造不出来，至少也要等到几年后，才建立起千级洁净室，来进行军工、电子等的研究。
这个目前来讲没有太好的解决办法，只能够尽力去克服。
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