在《全彩设备》的四条新线，全面上马的时候，《光电科研》的另一个项目，也悄悄启动了。
甘肃省平凉县，某研究所。
“所长，光电科研的小成，给我们打了一个电话，询问1.5微米光刻机的事情。”
“咦？他们的LCD产线，要用到这么高精度的光刻机了吗？”
作为《精密光机》的股东之一，研究所对光电及其下属的全彩，动向还是十分了解的。
国内的半导体设备行业，在这段时间全都吃了个饱。但也有个别细分行业是例外。光刻机这个细分行业就是其中之一。
LCD用大尺寸低精度光刻机，都被《精密光机》给截留了。研究所在92年，只能靠一些LED行业升级订单维持，与去年的热闹景象，完全不能比较了。
看着兄弟单位红红火火的局面，要说不羡慕是不可能的。接到了消息，大家本能的反应就是，我们的机会来了啊！
《精密光机》毕竟底蕴不足，从10微米，步进到5微米，已经是他们在短短一年时间里能取得的最大成就。
“不是的。他们想上一条小规模的晶圆厂，主要目的是生产LCD驱动芯片。这条产线的技术指标是2微米，3寸晶圆。”
“噢。这样啊。没有问题啊。”
1.5微米的光刻机，研究所85年就开发出来了，技术非常成熟。
虽然有些失望，但有总比没有好。这两年，除了LED和LCD产业产生的额外订单以外，真正来自半导体本身的订单，是少之又少。它甚至少到，都快被大家遗忘的程度了。
————————
“他还在问我们的0.8微米光刻机是否可以在93年面世。”
“他们这是准备做什么？为什么要问0.8微米光刻机的事情？”
研究所也有后续精度光刻机的研发计划，但受困于资金，进展始终不快。从85年算起，到现在7年了，升级换代产品一直没有出来。
不过随着时间的推移，技术也在慢慢进步，0.8微米的光刻机，已经看见曙光。大家努努力，还是有可能在93年面世。（原历史，94年面世）
“他说，光电有个技术进步路线图，他不仅仅是要上0.8微米，而且希望在94年，最迟95年能看到0.5微米光刻机。”
“这根本不可能！这不是开玩笑吗？他以为光刻机是什么？”
“我跟他说了，但他一直坚持。就是这个时间做不到，也要我们给出一个预计时间。”
秘书也不是什么不懂。不合理的东西，早顶回去了。
“这怎么给？没有钱，怎么做研发？下次他再打电话，告诉他，他要是投钱给我们，我们就帮他做研发。”
“小成提出了一个建议，就是我们两家合作，一起开发高精度光刻机。”
“怎么个合作法？”
“他的建议是，把我们的光刻机开发团队，并入《精密光机》。这个团队可以折合成公司股份。”
这支光刻机开发团队，是国内最强的一支技术团队，以它为骨干，于2002年，在上海成立了SMEE。
如果这个团队可以加盟《精密光机》，后续的一系列计划都有了实施的基础。
“就这些？”
所长并没有直接回答，而是在思考。研究所与《精密光机》一直有合作，已经有不少同事，被派去冰城工作了。
《精密光机》在过去的一年多时间里的发展，大家有目共睹。由于LCD产业链的滋养，这些派驻人员的工资，福利，比留在甘肃苦熬的留守人员强多了。
这种对比，也挺伤士气的。
派出去的都是二流人员。但这些人员在异地生根发言，一年来成果不断，在LCD光刻机领域，大放光芒。而留守的核心技术人员，由于资金不足，只能日复一日的浪费人生。
“小成经理还说了，如果我们同意这个合作开发光刻机的计划，他们会把一部分LCD光刻机订单转移给我们。”
————————
成都，光电所
众人在会议室，研究光电传过来的需求。
“我们的1.25微米光刻机，可以实用了吗？”
光电所的IOE1010G直接分步重复投影光刻机，工作分辨率1.25微米，于1990年通过国家验收。
“应该可以。”
“给他们回函吧。”
“他们提出来的合作请求呢？”
“再考虑考虑。”
————————
林大半导体系
“李校长，我们这边收到了一个合作开发请求。想问一下你的意见。”
“是关于什么的？”
“CMP技术，这个技术很新，刚刚才由IBM发表。”
————————
春城，光机所
“你们调研的结果如何了？”
所长正好路过办公室，顺嘴就询问了一下进度。
“还在研究，193nm激光我们以前没有接触过。”
这章没有结束，请点击下一页继续阅读！